加熱制冷水槽(-30℃~90℃)可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,用于石油化工、制藥、半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制,低溫測量和檢定,樣品保存等浸入式實驗或外循環(huán)應(yīng)用。
掃一掃 微信咨詢
©2024 蘇州吉米諾儀器有限公司 版權(quán)所有 備案號:蘇ICP備14016481號-3 技術(shù)支持:環(huán)保在線 sitemap.xml 總訪問量:154158 管理登陸
在線咨詢
電話
微信掃一掃
返回頂部