定制低溫恒溫循環(huán)槽MD20-5P,容積5L,控溫范圍-5℃~100℃,高達至溫度100℃,作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,用于低溫測量和檢定,樣品保存等浸入式或外循環(huán)使用
低溫恒溫反應槽(-20℃~90℃)可直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制,半導體擴散爐擴散工藝控制,低溫測量和檢定,樣品保存等浸入式或外循環(huán)應用
低溫恒溫槽MD40系列.溫波動度達到±0.05℃,提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源
低溫恒溫水槽MD5-4,容積4.5L,控溫范圍-5℃~90℃,溫度波動度0.05℃,提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制,半導體擴散爐擴散工藝控制,低溫測量和檢定,樣品保存等浸入式或外循環(huán)應用
低溫恒溫水槽(-20℃~100℃)MD20系列,恒溫波動度達到±0.05℃,提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源
超低溫恒溫裝置(-90℃~100℃)采用復疊式壓縮制冷,噪音低,制冷效率高,可以提供熱冷受控,溫度均勻恒定的液體環(huán)境,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,恒溫波動度達到±0.1℃
加熱制冷浴槽(-30℃~90℃)主要有壓縮機、冷凝器、節(jié)流閥、換熱器、循環(huán)泵、加熱器等幾大件組成,用于-30℃石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制,半導體擴散爐擴散工藝控制,低溫測量和檢定,樣品保存等浸入式或外循環(huán)應用
大容量加熱制冷浴槽MD30-100,容積100L,控溫范圍:-30℃~90℃(高至溫度100℃),可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,用于-30℃的樣品保存、分析測試和計量檢定等
低溫恒溫循環(huán)槽 MD20-20可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制,半導體擴散爐擴散工藝控制,低溫測量和檢定,樣品保存等浸入式或外循環(huán)應用。
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